-
Lithographie machin Mask Aligner Photo-Etching machin
Pwodwi entwodiksyon sous limyè ekspoze a adopte enpòte UV dirije ak sous limyè modil fòme, ak ti chalè ak bon estabilite sous limyè. Estrikti ekleraj Envèse a gen bon efè dissipation chalè ak sous limyè efè fèmen, ak ranplasman lanp mèki ak antretyen yo senp ak pratik. Ekipe ak gwo agrandisman binokilè doub mikwoskòp jaden ak 21 pous ekran LCD lajè, li ka vizyèlman aliyen nan oculaire oswa CCD + ekspozisyon, ak aliman segondè ...
